Установка для подготовки эпитаксиальных структур кремния к CV-измерениям

Установка предназначена для выполнения операций химической обработки в подготовке эпи-таксиальных структур кремния к CV-измерениям.



Установка имеет в своем составе две химические ванны, позволяющие проводить обработку кассет с пластинами диаметром до 200 мм, две промывочные ванны с деионизованной водой, поз-воляющие отмывать эти же кассеты и одноместную центрифугу, для индивидуальной сушки пла-стин. Ванны для химической обработки изготовлены из фторопласта, промывочные — из поли-пропилена. Все ванны снабжены крышками. Ванна с перекисью водорода оснащена нагревателем и системой термостатирования, обеспечивающей поддержание в ней заданной температуры в пределах 50-100ºС.


Установка комплектуется блоком фильтрации и подачи химических реагентов (на рисунке не показан).


Заполнение ванн реактивами осуществляется при помощи насосов, расположенных в блоке фильтрации и подачи химических реагентов.. Слив из ванн отработанных реактивов производится при помощи эжектора в химканализацию.


ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ и КОММУНИКАЦИИ

Диаметр обрабатываемых пластин, мм76-200
Гарабитные размеры установки, мм (длина - ширина - высота)1800 х 800 х 1800
Гарабитные размеры блока подачи, мм (длина - ширина - высота)1200 х 600 х 1600
Потребляемая мощность сети 200 В 50 Гц , не более, КВт2,5
Деионизованная вода марки «А», давлением 0,2-0,3 мПа, м3/ч1
Сжатый осушенный и очищенный воздух по ГОСТ 174433-80, по трубопроводу Ду 10мм, давлением, мПа0,4-0,6
Вода питьевая, давлением мПа0,3-0,5
Вытяжная вентиляция, м3/ч3000
Химическая канализация, Ду50