Установка предназначена для химического травления п/п пластин в сильно агрессивных средах, в частности в травителе, состоящем из плавиковой, азотной кислот и воды с последующей отмыв-кой водой. Установка может применяться для удаления нарушенного слоя кремния с непланарной стороны пластины после операции «утонение пластин» механическим способом. Обрабатываются пластины диаметром 100,150,200 мм. Установка имеет 5 ванн последовательной обработки.
Ванны фторопластовые – 2шт
Стоп-ванна отмывки – 1шт
Ванны каскадной отмывки – 2шт
Полупроводниковые пластины в кассетах по 25 штук в каждой погружаются в химические ванны заправленные травителем для травления. Одна ванна предназначена для травления пластин Ø100,150мм, другая для травления пластин Ø150,
Контроль процессов травлений и отмывки пластин в стоп-ванне осуществляется по времени;
Контроль каскадной отмывки осуществляется по проводимости д/воды в заданный промежуток времени. Окончание процессов осуществляется визуально по показаниям приборов и дублируется звуковым сигналом. Перенос кассет с пластинами осуществляется вручную.
ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ
| Габаритные размеры, мм: | |
| длина × ширина × высота установки | 1870 ×1090 ×1610 |
| блока подачи и фильтрации: | |
| одноместного | 420 х 500 х 1610 |
| двухместного | 820 х 500 х 1610 |
| Масса установки и ее составных частей, кг, | 350 |
| Диаметр обрабатываемых пластин, мм | 100, 150, 200 |
| Температура нагрева реагентов в ваннах химобработки, 0С | (50÷160) ±5 |
| Потребляемая мощность, кВт, не более | 3,0 |
| Диапазон времени обработки в каждой ванне, с | 5÷ 999 |