Установка химобработки НТО 2.00.00.000

Установка предназначена для объемной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных химических реактивах: Н2SO4 + Н2O2,


NH4 OH + Н2O2 и других с последующей промывкой в деионизованой воде.


Питание установки осуществляется от трехфазной, четырехпроводной сети переменного тока напряжением 380/220 В частоты 50 Гц.


В установке предусмотрена возможность работы ванн в режиме рецикла.


По отдельному договору установка может комплектоваться одно или двухместным блоком подачи и фильтрации химреактивов.


Полупроводниковые пластины обрабатываются групповым методом в стандартных фторопласто-вых кассетах.


В каждой ванне одновременно обрабатываются две кассеты с пластинами Ø 100 мм или одна кас-сета с пластинами Ø150 мм (для ванн химобработки) и две кассеты с пластинами Ø150 мм в остальных ваннах.

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ

Габаритные размеры, мм:
длина × ширина × высота установки1870 ×1090 ×1610
блока подачи и фильтрации:
одноместного420 х 500 х 1610
двухместного820 х 500 х 1610
Масса установки и ее составных частей, кг,350
Диаметр обрабатываемых пластин, мм100, 150
Температура нагрева реагентов в ваннах химобработки, 0С(50÷160) ±5
Потребляемая мощность, кВт, не более3,0
Диапазон времени обработки в каждой ванне, с5÷ 999